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  • 無焊料平行封焊技術:高端光模塊封裝的可靠性核心與發展路徑

    在5G基站規模化擴容與數據中心算力持續升級的雙重驅動下,光模塊正加速向400G/800G/1.6T高速率、高密度方向迭代。光芯片作為光模塊的核心功能單元,其性能發揮高度依賴封裝工藝的可靠性支撐——尤其在極端溫濕度、高頻振動等嚴苛應用場景中,封裝的氣密性、潔凈度及應力控制水平,直接決定光模塊的長期穩定運行能力。其中,無焊料平行封焊技術憑借“無污染物殘留、高氣密性、低應力”的核心特性,已成為高端光模塊封裝的首選技術方案。

    0 2025-10-28
  • 什么是硅光技術?硅基與光子融合驅動數字時代高速傳輸變革的核心技術

    在數字經濟快速發展的背景下,云計算場景下海量數據的高效處理、AI大模型訓練中的低時延協同、高清視頻流的流暢傳輸等關鍵應用,均對數據傳輸技術提出了“高速、低耗、高集成、低成本”的嚴苛需求。硅光技術(SiliconPhotonics)作為硅基平臺與光子集成技術的融合產物,通過在硅基芯片上實現光信號的傳輸、調制與探測,無縫銜接傳統硅基電子芯片,既兼具光傳輸的“高速低耗”特性,又繼承硅半導體的“低成本高集成”優勢,已成為破解傳統電傳輸瓶頸、重塑高速數據傳輸賽道的核心技術支撐。

    0 2025-10-28
  • 玻璃顯色原理與調控技術研究

    彩色玻璃在建筑裝飾、電子顯示、光學器件等領域具有廣泛應用,從哥特式教堂的彩繪玻璃窗到智能手機的漸變色后蓋,其色彩呈現背后蘊含著復雜的物理化學機制。玻璃作為以硅酸鹽為主要成分的非晶態固體,本身呈透明狀,其色彩的產生是光與玻璃微觀結構、化學成分相互作用的結果。本文將從顏色的本質屬性出發,系統闡述玻璃顯色的核心機制,并詳解其顏色調控的關鍵技術手段。

    1 2025-10-28
  • 精密光學鏡片出廠檢測技術規范與質量管控要點

    精密光學鏡片作為光學儀器、激光設備及工業鏡頭的核心組件,其質量直接決定下游產品的成像精度、光傳輸效率及長期可靠性。在鏡片從生產到交付的全流程中,出廠檢測是篩選合格產品、規避質量風險的關鍵環節。然而,實際采購與合作過程中,常因檢測標準不明確、技術要求未書面化等問題導致供需雙方糾紛,增加企業成本。基于行業實踐經驗,本文系統梳理精密光學鏡片出廠前需重點關注的四大核心檢測維度,并明確質量管控關鍵節點,為相關從業者提供規范化技術參考。

    2 2025-10-28
  • 共聚焦顯微鏡與熒光顯微鏡的技術特性、性能對比及應用場景分析

    在材料科學微觀結構解析、工業生產精密質控及生命科學細胞機制研究等領域,微觀成像技術是獲取關鍵信息的核心手段。共聚焦顯微鏡與熒光顯微鏡作為兩類以熒光信號為檢測基礎的主流成像設備,雖均能實現特異性標記成像,但在光學設計原理、核心性能指標及實際應用適配性上存在顯著差異,其技術特性的不同直接影響微觀分析工作的效率、數據準確性及研究深度。本文從技術本質出發,系統梳理兩類設備的核心區別,為科研與工業場景的技術認知及應用判斷提供專業參考。

    3 2025-10-27
  • 光學鏡片質檢核心技術—退膜技術的原理與應用價值

    在光學鏡片制造與質量管控領域,精準定位表面瑕疵根源是保障產品合格性的關鍵環節。當鍍膜鏡片出現表面褶皺、斑點等不良問題時,由于膜層的覆蓋作用,直接檢測難以區分問題源于基材加工、鍍前清洗還是鍍膜過程——而退膜技術作為一種兼具針對性與破壞性的分析手段,恰能突破這一技術瓶頸,成為解決此類疑難質量問題的“最后殺手锏”。

    4 2025-10-27
  • 【光學材料】硅晶圓與玻璃晶圓清洗工藝的差異分析

    在半導體及顯示器件生產過程中,清洗工藝是保障產品良率的關鍵環節,但不同基材的清洗需求與技術路徑存在顯著差異。某玻璃載片生產場景中,經清洗后的載片雖通過外觀檢測,卻在后續鍍膜工序中出現膜層附著力批量不良;同期某半導體產線則發現,芯片漏電率異常升高,溯源結果指向硅晶圓清洗環節中稀氫氟酸(DHF)槽工藝時間漂移,導致自然氧化層(SiO?)去除不徹底,進而引發柵極氧化層缺陷。上述案例表明,即便同為“晶圓清洗”,硅晶圓與玻璃晶圓面臨的技術挑戰、失效模式截然不同。這種差異的根源,在于兩種材料的物理化學特性、應用場景對潔凈度的規格要求存在本質區別,最終決定了二者清洗工藝的核心邏輯與技術方案的分野。

    3 2025-10-27
  • 量子光學領域重大突破:超表面體系中光子對法諾干涉現象的首次觀測

    近日,美國桑迪亞國家實驗室的JihoNoh(第一作者)與IgalBrener(通信作者)團隊在國際頂尖學術期刊《Light:Science&Applications》發表重磅研究成果。該團隊通過設計基于[110]取向砷化鎵(GaAs)的量子光學超表面,將SPDC效率提升近一個數量級,并在雙光子光譜中首次捕捉到以法諾形式呈現的雙光子干涉現象。此項研究不僅豐富了糾纏光子的生成路徑,更為量子技術的集成化、小型化發展提供了更具潛力的核心平臺支撐。

    4 2025-10-27

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