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未命名-17

DI 100 高精度動態干涉儀

傳統移相干涉儀使用壓電元件等移動參考平面來獲取干涉條紋的圖像,并計算相位分布。這種方法的缺點是單次測量至少需要100 毫秒,期間干涉儀與測量樣品之間會發生相對振動和空氣波動,導致干涉條紋發生波動,從而增加測量誤差。為了解決這些問題,DI 100 動態干涉儀采用了“動態干涉測量”技術,無需機械移動參考平面,一次圖像數據采集即可獲得四幀相移干涉圖。由于對相機的每個像素進行相移,可以穩定地收集數據,并且由于一次測量的時間可以縮短到 30 微秒,因此可以在干涉圖像因振動等而發生變化之前的瞬間進行測量
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Product Details

    傳統移相干涉儀使用壓電元件等移動參考平面來獲取干涉條紋的圖像,并計算相位分布。這種方法的缺點是單次測量至少需要100 毫秒,期間干涉儀與測量樣品之間會發生相對振動和空氣波動,導致干涉條紋發生波動,從而增加測量誤差。為了解決這些問題,DI 100 動態干涉儀采用了“動態干涉測量”技術,無需機械移動參考平面,一次圖像數據采集即可獲得四幀相移干涉圖。由于對相機的每個像素進行相移,可以穩定地收集數據,并且由于一次測量的時間可以縮短到 30 微秒,因此可以在干涉圖像因振動等而發生變化之前的瞬間進行測量。

 

產品特性


*動態干涉儀具有較強的抗干擾能力,能夠在振動、溫度變化、氣流等復雜環境中保持穩定的測量結果。

*動態干涉儀能夠實現實時測量,適用于高速、動態的測量場景。

*超長光路的測量,通過結合補償法,可以克服超長光路造成的振動和大氣擾動的影響,實現超大口徑凹/非球面的精密檢測。
*動態干涉儀通過優化光柵設計和光路設置,提高了光能量的利用率,解決了普通二維光在動態干涉術中光能量利用不足的問題。
*動態干涉儀通過改進光路設計,如使用Twin-PBS結構,可以有效消除測量光路中PBS膠合層所引入的寄生條紋誤差。

*動態干涉儀可以測量多個物理參數,如位移、氣流等,提供全面的測量數據。

 

產品示意圖

D1 100

 

測量結果

  D1 100測量軟件

 

產品型號及技術指標


 

產品型號

D1 100

最小曝光

40ms

樣品反射率

1–100%

RMS 重復性

<0.001λrms*

RMS 精度

<0.002λrms**

獲取模式

單相機(光學相位傳感器)

光路結構

光纖耦合頭和激光源模塊,光纖長度 3/5 米(可定制)

激光光源

穩頻氦氖激光源,波長 632.8 nm

激光功率標準

<1.5 mW

最大腔長

>100 m

出瞳直徑

7 mm

擴束鏡

范圍 f#1—f#25

偏振態

圓形偏振

焦距范圍

±12.5 mm,與光學放大倍數相關

放大倍率

1X,固定

相機

5MPx,12 位色深

電動控制

焦距、對比度調整

 

產品中心

PRODUCT CENTER